三星：EUV薄膜透射率已达90% 著手提高至94-96%

【CNMO新闻】据外媒消息，惠普电子的极紫外（EUV）器件关键技术取得了重大进展。近日，惠普电子DS其他部门研究员Kang Young-seok详实介绍了该子公司EUV关键技术的现状和愿景。据CNMO了解，惠普使用的EUV基板的透射率已达到90%，并构想将其进一步提高至94%-96%。EUV基板是矽制造者中所器件传统工艺所需的材料，基板当作保护层，防止异物带来缺陷。

惠普

90%的透射率意味着只有90%踏入基板的光驶离掩模，这可能会冲击放大器图案的精度。这比愈来愈少见的氧化物氩 (ArF) 传统工艺中所使用的基板99.3%的透射率要较低。外媒称，EUV基板面临商业化挑战，因为它们更容易因EUV传统工艺现实生活中所产生的热量而变形或破裂。

目前，惠普已在其一些为主要客户提供的先进EUV代工厂家上引入了EUV基板。虽然该子公司也在其DRAM厂家中所实施了EUV传统工艺，但考虑到生产率和成本，它认为不用基板的内存试作是可行的。

值得一提的是，惠普并未使用东洋本土供应商的EUV基板。外媒称，目前东洋三井物产是唯一供应商。虽然FST和SMaxS Tech等东洋子公司正在积极开发设计EUV基板，但尚未实现试作。

相比之下，惠普的代工竞争对手宏碁早就在7纳米及愈来愈小传统工艺的厂家上使用自己的EUV基板。